고등기술연구원

보유기술

Institute for Advanced Engineering

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INSTITUTE FOR ADVANCED ENGINEERING

신소재공정센터
금속 표면 처리 기술

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· 기술설명

알루미늄, 마그네슘, 스테인레스 스틸 등 금속의 표면처리 기술로, 건축자재, 반도에 부품, 자동차 부품, 금속 촉매 등 다양한 분야에 적용 가능한 기술로, 금속 시편을 전해질 내에서 전류를 인가해 금속시편의 표면에 균일하고 두꺼운 산화피막을 형성시키는 전기화학 공정임. 이를통해 내화학성, 내마모성, 경도 등이 향상됨. 이러한 전기화학 공정을 양극산화공정으로 불리며, 양극산화 공정에는 일반 유기산 등을 이용하는 일반적인 기공형 양극산화 공정(anodizing) 과 약 염기 전해액 내에서 고전압을 인가해 발생하는 플라즈마를 이용한 플라즈마 전해 산화(Plasma Electrolytic Oxidation) 공정으로 나뉘며, 두 기술을 모두 보유하고 있음.
양극 산화 공정은 100 V 미만의 저전압에서 수행하고 있으며, Si, Mg 등의 물질이 포함된 경우 평균 20 μm 산화층을 형성시키는데 1시간 이상의 장시간이 요구됨. 상대적으로 전해산화의 경우 플라즈마가 형성 되는 전압 조건에서 국부적으로 발생된 플라즈마를 이용해 산화층이 형성되므로,단 시간 내에 평균 20 μm 의 산화층을 형성시킬 수 있음.

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성명 : 양재교 수석연구원
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