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INSTITUTE FOR ADVANCED ENGINEERING
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고속산화-고속집진 기술을 활용한 반도체 공정용 복합 대기오염물질 제거 기술
· 기술설명
고속산화 제안 기술은 오존산화 반응의 매우 빠른 반응속도를 이용하여 비수용성 질소산화물을 수용성 물질로 변환시킴으로써 NOx 제거효율을 비약적으로 향상시킬 수 있다는 장점을 가짐. 후처리 통합 설비는 기존 SCR, wet scrubber, 습식 전기집진기를 대신하여 고효율 처리, 기존 공정과의 호환성 및 설비의 설치 면적과 무게도 동시에 줄이는 등 컴팩트한 설비 구축이 가능할 것으로 기대됨.
· 관련정보
· 추가정보
· 관련보유특허
구분
특허명
출원특허
· 관련보유논문
구분
논문명
저널명
1
반도체 제조공정 미세먼지-NOx 동시 저감을 위한 오존 고속산화공정 최적화 연구
한국가스학회지
2
복합대기오염 저감 시스템을 위한 오존 고속산화 기반 고도산화공정
한국공업화학회 국문지
· 연락처
성명 :
엄성현/홍기훈
이메일 :
electrik@iae.re.kr/run1600@iae.re.kr
연락처 :
031-330-7494/031-330-7847
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